半导体晶圆扩散炉 箱式电阻炉 单温区硅碳棒加热用于工业生产
时间:2024-09-07 09:29:36 点击:520 次

产品名称:半导体晶圆扩散炉 箱式电阻炉 单温区硅碳棒加热 用于工业生产
一、概述
箱式炉系周期作业式,供实验室、工矿企业、科研单位作元素分析测定和小批量生产用。
二、规格、型号
型号:BXS-5-16
有效工作尺寸:150*140*140mm(深*宽*高)
炉膛材质:高纯陶瓷纤维(日企)
烧结时间:可根据产品工艺调节
使用方法:在空气中烧结
额定功率:≈5KW(实际功率由仪表自动控制输出)
电压:220V
额定温度:1650℃
三、具体安装使用方法说明
本设备可直接放置于室内干燥,平整的地面上,要求通风排风良好。
1、烘炉
电炉在正式使用前必须烘炉,以排除炉内的水分(包含吸附水与结构水)。
烘炉以10-30℃/h升温,直至炉温升到1200℃,烘炉时间不得低于24—36小时。电炉停炉半年以上必须重新烘炉。
2、物料简易烧结流程
通入电源—设定温度曲线—放入产品—关闭炉门一启动加热一降温完成工艺烧结—取料、关闭电源。
注:半导体晶圆扩散炉 箱式电阻炉等其他型号规格可以根据用户实际需求设计,
价格仅参考,欢迎咨询详谈:0510-87195028 18888033558 吴经理。
